在半導體行業(yè)的晶圓制造廠(chǎng)生產(chǎn)過(guò)程中，半導體生產(chǎn)需要非常高質(zhì)量標準的復雜制造工藝（例如化學(xué)機械拋光CMP），因此會(huì )產(chǎn)生各種不同的生產(chǎn)廢水。

目前半導體行業(yè)生產(chǎn)廢水主要有三大類(lèi)，分別是含氟廢水、含銅廢水以及含氨廢水，三類(lèi)廢水因為水質(zhì)復雜、污染物含量高，對環(huán)境均具有較為嚴重的影響，加強半導體生產(chǎn)廢水的處理是企業(yè)亟需解決的環(huán)保難題。

半導體含氟廢水處理

根據含氟廢水的特點(diǎn)，以及氟離子的理化特性，海普研發(fā)了系列高性能除氟吸附劑（如圖3所示），除了可用于常規含氟廢水的達標處理，也可用于高氟高鹽料液，滿(mǎn)足客戶(hù)生產(chǎn)需求

某農化企業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生一股高氟廢水，需要達標處理，經(jīng)過(guò)我司特種吸附劑處理后，數據如下表1所示

某鋰電回收企業(yè)，在有價(jià)金屬資源回收中產(chǎn)生兩股含高氟高鹽料液，需要除氟處理，要求不引入其他離子

經(jīng)過(guò)我司高選擇性除氟吸附劑處理后，相關(guān)數據見(jiàn)表2所示

由表2可見(jiàn)，海普除氟吸附劑性能優(yōu)異，另外，對相關(guān)吸附劑進(jìn)行了多批次穩定性測試

半導體廢水除銅處理

海普除銅樹(shù)脂能深度吸附去除廢水中的銅，銅離子的去除率穩定在90%以上，配合相關(guān)吸附工藝處理廢水時(shí)，廢水中的銅離子大部分被吸附脫除，銅離子被轉移至脫附液中，方便后續的回收副產(chǎn)品，滿(mǎn)足客戶(hù)排放要求的同時(shí)，不產(chǎn)生二次污染，保障了企業(yè)的正常運行。

海普除銅樹(shù)脂產(chǎn)品及其配套組合工藝已幫助多家客戶(hù)完成了含銅廢水相關(guān)的處理需求

新建銅酸水吸附處理設施，總設計廢水處理規模為100m3/d，銅酸水銅離子含量高滿(mǎn)足不了生產(chǎn)要求，影響企業(yè)的穩定生產(chǎn)。

海普選用除銅樹(shù)脂并對該廢水進(jìn)行了定制化的工藝設計，廢水設計指標如下表。

從左到右依次為原水、出水、脫附液、水洗液?

電鍍車(chē)間產(chǎn)生的廢水中5~10 mg/L銅，不能夠達標排放，處理要求：銅＜0.3 mg/L，處理結果如下。

半導體廢水除氨氮

一企業(yè)要求處理后廢水中氨氮含量低于20 mg/L，實(shí)驗處理效果表明采用海普除氨氮吸附劑進(jìn)行吸附處理，廢水中的氨氮去除率穩定在90 %以上，出水中氨氮含量可以控制在10 mg/L以下。

在保證達到客戶(hù)的要求的同時(shí)留有一定的安全余量，能有效防止入料廢水的水質(zhì)波動(dòng)造成出水不達標。